Maszyna do PVD GALACTIC GAVA 500 CAPVD wyprodukowana została w 2022 roku w Polsce.

Dane techniczne maszyny do sputteringu PVD GALACTIC GAVA 500 CAPVD
- sterownik PLC: MITSUBISHI A1S1
- rodzaje powłok: TiN, TiCN,TiAlN, TiAlNEX, CrN, ZrN, CrAlN, TiSiAlN, AlCrN, ZrO, CrCO
- wymiary komory próżniowej (śr. x wys.): 600 x 600 mm
- maksymalna waga detalu: 500 kg
- maksymalna próżnia: 5x 6-10 mbar
- ewaporator CAPVD (2 szt.)
- sprężarka
- urządzenie chłodzące (chiller)
- pompa Rootsa: LEYBOLD 501 S (2 szt.)
- wydajność pompy Rootsa: 4040 m3/h
- ciśnienie pompy Rootsa: 3-10 mbar
- pompa turbomolekularna: LEYBOLD MAGiNTEGRA
- wydajność pompy turbomolekularnej: 2000 l/s
- ciśnienie pompy turbomolekularnej: 6-10 mbar
- uchwyty satelitarne (18 szt.)
- dystrybucja gazów procesowych: przepływomierze masowe z sensorami
- kontrola temperatury: termopara typu K
- zasilanie maszyny GALACTIC GAVA 500 CAPVD: 3x 400 V; 50 Hz

Więcej informacji na temat maszyny znajdziecie Państwo na naszej stronie internetowej. Zapraszamy również do zapoznania się z pełną ofertą z naszymi maszynami.