Maska ochronna pełnotwarzowa Honeywell PANORAMASQUE (poprzednia nazwa: WILLSON PANORAMASQUE) wraz z odpowiednio dobranym filtrem, pochłaniaczem lub filtropochłaniaczem służy do ochrony dróg oddechowych i twarzy przed szkodliwymi gazami i parami o stężeniu do 20xNDS i przed cząstkami stałymi i ciekłymi o stężeniu do 40xNDS. Maska PANORAMASQUE nr 1710394 wykonana jest w części twarzowej z gumy EPDM i posiada wizjer wykonany z PMMA. W zależności od rodzaju zanieczyszczenia i jego stężenia należy do półmaski dobrać odpowiedni filtr i/lub pochłaniacz.
(Zobacz klasyfikację filtrów i pochłaniaczy)

Cechy / Zalety

Część twarzowa wykonana z EPDM (terpolimer etylenowo-propylenowo-dienowy) o bardzo wysokiej wytrzymałości i odporności na starzenie oraz zapewniająca bardzo dobrą szczelność.
Panoramiczna szyba wykonana z PMMA (polimetakrylan metylu) zapewnia bardzo dobrą widoczność i odporność chemiczną.
Silikonowa wewnętrzna część twarzowa - wysoka jakość, niezrównana wygoda i wytrzymałość. Dobrze przylega do twarzy i nadaje się do długotrwałego składowania. Nie powoduje uczuleń.
Szczelny kołnierz części twarzowej - szeroki i mięki.
Pięciotaśmowe nagłowie z zapewnia trwałość i szybkie i stabilne dopasowanie.
Taśmy nagłowia ze sprzączkami zapewniają szybkie wkładanie, dopasowanie i zdejmowanie maski.
Standardowe połączenie gwintowe RD40 x 1/7” zgodnie z normą EN 148-1, co zapewnia swobodny dobór filtrów i pochłaniaczy.
Pasek na szyję z bawełny ognioodpornej - pozwala na zawieszenie maski na szyi, gdy nie jest używana.
Możliwe noszenie okularów korekcyjnych pod maską.
Boczny zawór wydechowy - niskie opory, łatwe wydychanie.
Informacje techniczne

Wskaźnik ochrony:
- w połączeniu z pochłaniaczem dla gazów i par: NPF=2000, AFP=20
- w połączeniu z filtrem P3: NPF=2000, AFP=40
- w połączeniu z pochłaniaczem i z filtrem P3: NPF=2000, AFP=20
Dostawa obejmuje maskę bez elementów oczyszczających.
Maska przystosowana jest do skompletowania z jednym elementem oczyszczającym.
Wymagania

spełnia normę EN136 - Sprzęt ochrony układu oddechowego - Maski - Wymagania, badanie, znakowanie